立方体(盒)反射¶

间接反射被存储在立方体贴图阵列中。从哪里对场景光照进行采样，然后在哪里应用，这些属性都通过立方体反射物体来定义。

混合¶

来自立方体反射的光照强度会向外逐渐衰弱，直到边界。它们会衰减至融入到场景光照或另一个立方体反射光照。如果多个立方体光照重叠，则优先考虑体积较小的立方体反射。如果物体不在任何立方体反射影响范围内，或者间接光没有烘焙，将使用场景立方体对其进行着色。

参考

距离

探头物体仅影响其邻近表面的反射，由距离参数与探头大小决定影响区域。不同探头类型间有细微差别。

对于立方体反射，受影响的空间可以是一个以探头原心为中心的盒形或球形。

衰减

影响距离的百分比，探头的作用将沿其线性衰减。

强度

被记录光照的强度系数。将该参数值设为1.0之外的值都不是物理正确的。可以将它调整达到艺术目的。

剪裁范围

定义探头探测场景来烘焙贴图的最小距离和最大距离范围。

可见性集合

当物体距离探头过近时，会影响探头探测场景来烘焙光照贴图。可见性集合可以使仅该集合(群组)物体可被探头采集到光照信息。

另有一个选项可以反转该集合, 并隐藏此集合中的物体，不会被探头采集光照信息烘焙到反射贴图中。

Note

这只是一个过滤选项。如果一个物体在渲染时不可见，那么它在探头烘焙中也是不可见的。

参考

默认情况下, 影响体积也是视差体积。视差体积是记录的光照投射的体积。它应该大致适合周围。在某些情况下, 最好在不触及影响参数的情况下调整视差体积。在这种情况下, 只需启用 自定义视差 并单独修改视差体积的形状和距离。